Produkcja prototypowych układów w litografii klasy 2 nm ma ruszyć w kwietniu 2025, a komercyjna sprzedaż rozpocznie się w 2027 roku. A na tym nie kończą się plany wyspiarzy.
Japońska firma Rapidus z powodzeniem rozpoczęła instalację nowych maszyn EUV od holenderskiego ASML. Staną one w zakładzie w mieście Chitose, na wyspie Hokkaido. Są to obecnie najbardziej zaawansowane urządzenia tego typu na świecie, za pomocą których będzie możliwe tworzenie półprzewodników w procesie produkcyjnym 2 nm, a nawet niższych. Chociaż brzmi to odlegle, to Japończycy mają chrapkę na masową produkcję w litografii 1 nm jeszcze w latach 30-tych XXI wieku.
IIM-1 ma kosztować Japończyków około 32 miliardy dolarów
Cały system ma masę 71 ton i wysokość 3,4 metra. Równie imponujące są możliwości, jest on bowiem zdolny do produkcji nawet 220 wafli krzemowych na godzinę przy 30 mJ/cm². Zanim jednak zostanie uruchomiony, musi zostać złożony, a cała operacja jest podzielona na cztery etapy i ma się zakończyć pod koniec grudnia. Pilotażowa produkcja wafli 2 nm ma nastąpić w kwietniu 2025, natomiast do 2027 roku IIM-1 ma już pracować na pełnych obrotach.
Niestety, pomimo że Rapidus jest wspomagany przez takich gigantów jak IBM czy Imec, to ciągle nie będzie mógł się równać z liderami branży. Zarówno TSMC, jak i Intel wyprzedzają Japończyków o około 2 lata i chcą rozpocząć komercyjną produkcję chipów klasy 2 nm, a nawet 1,6 nm, w drugiej połowie 2025 roku. Trzeba jednak zaznaczyć, że w dalszym ciągu jest to przełom dla wyspiarskiego przemysłu półprzewodnikowego, a i dywersyfikacja produkcji ma ogromne znaczenie dla całej branży.
Najnowsze Komentarze